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Investing.com - O Bernstein SocGen Group reiterou sua classificação Market Perform e preço-alvo de US$ 935,00 para a ASML Inc. (NASDAQ:ASML) após relatos de uma startup do Vale do Silício que afirma ter desenvolvido um método mais barato de fabricação de semicondutores.
A startup supostamente demonstrou recursos de 12nm usando um acelerador de partículas proprietário e uma máquina de litografia compacta com uma fonte de luz de raios X personalizada, potencialmente desafiando players estabelecidos como ASML e TSMC.
O analista da Bernstein, David Dai, observou que a litografia de raios X não é um conceito novo, tendo sido proposta pela primeira vez em 1972 antes de ser abandonada por volta de 2000, com a tecnologia EUV (Ultravioleta Extremo) emergindo a partir de seus esforços de desenvolvimento.
Apesar das vantagens teóricas dos raios X com comprimentos de onda de 1-10nm em comparação com os 13,5nm do EUV, a Bernstein destacou vários desafios históricos com a tecnologia, incluindo requisitos de litografia de proximidade, limitações de tamanho de máscara e problemas de uniformidade.
A empresa de pesquisa expressou ceticismo sobre as afirmações da startup, declarando que, embora possa ter resolvido o problema da fonte de luz, é "improvável que solucione essas questões intrínsecas da litografia de raios X" e enfrenta desafios significativos de suporte ao ecossistema.
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