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Investing.com - A Rothschild & Co Redburn elevou a recomendação da ASML Holding NV (AS:ASML) para "compra" de "neutra" e aumentou seu preço-alvo para €1.200 de €900, citando melhores perspectivas comerciais para sua tecnologia de litografia ultravioleta extrema de alta abertura numérica (HNA EUV) e maior visibilidade de lucros a longo prazo, em nota datada de sexta-feira.
A corretora afirmou que os avanços no "field stitching" de HNA, junto com a crescente adoção de chiplets para processadores de data centers de IA, melhoraram significativamente a viabilidade da tecnologia.
Os analistas da Rothschild & Co Redburn disseram que as melhorias coincidem com expectativas de que a Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) formalize seu roteiro para HNA em seu Simpósio de Tecnologia em abril de 2026.
A análise revisada da Redburn projeta que a intensidade da litografia subirá para 23% dos gastos de capital em equipamentos de fabricação de wafers até 2030, apoiada pela adoção de transistores gate-all-around (GAA).
A corretora afirmou que isso marca um retorno ao "escalonamento tipo Dennard", onde desempenho, custo e eficiência energética dos transistores melhoram simultaneamente.
As previsões de lucros para 2026-30 foram elevadas em 7-17%, deixando as estimativas da corretora 7-12% acima do consenso.
A corretora citou uma base de clientes mais ampla entre as fundições de ponta, incluindo Intel e Samsung, e uma perspectiva mais forte para a demanda por EUV.
O desenvolvimento da ferramenta HNA EUV da ASML foi destacado como um fator-chave para o upgrade. A colaboração da empresa com a Intel e o IMEC da Bélgica levou a melhorias na precisão de sobreposição e na produtividade.
O processo de "medidas extras" da ASML reduziu a penalidade de produtividade do field stitching para 19%, com um roteiro para reduzi-la ainda mais para 10%, segundo a corretora.
A nota também citou comentários do CEO da ASML, Christophe Fouquet, durante a teleconferência de resultados da empresa em outubro de 2025, onde ele disse que mais de 300.000 wafers foram processados no sistema high NA, colocando-o "bem à frente" da plataforma low NA EUV em um estágio similar de introdução.
O modelo atualizado da Rothschild & Co Redburn assume que a receita total aumentará de €32,6 bilhões em 2025 para €55,9 bilhões em 2030, com margens operacionais melhorando de 35% para 44% no mesmo período.
A corretora avalia a ASML em 25 vezes o EV/EBIT futuro de dois anos, refletindo sua posição no ciclo de adoção do HNA, e vê potencial de alta para 30-33 vezes se os clientes acelerarem a implementação.
Os analistas preveem que a receita de HNA EUV aumentará de €2,3 bilhões em 2026 para €6 bilhões em 2030, representando até 55% do aumento em suas estimativas de lucros de longo prazo.
Os riscos para a nova classificação incluem possíveis atrasos na implementação do HNA e gastos de capital mais fracos em semicondutores se os esforços de relocalização resultarem em excesso de capacidade, disse a nota.